Diretor Geral de Teófilo Otoni visita instituições da cidade em busca de parcerias.

Bruno Dias Bento (Coordenador da Unidade de Inovação Tecnológica em Gemas e Joias de Teófilo Otoni, vinculada ao Centro de Estudos em Design de Gemas e Joias da Escola de Design da UEMG) e Renildo Félix (Diretor Geral IFNMG-Câmpus Teófilo Otoni)

O professor Renildo Félix, diretor-geral do câmpus Teófilo Otoni e o professor Yuri Bento, estiveram nesta segunda-feira, dia 02 de março, em visita ao polo da UEMG, Universidade Estadual de Minas Gerais.
Foram recebidos pelo coordenador, o professor Bruno Dias Bento, que apresentou a estrutura física e tecnológica do polo e prestou informações sobre os cursos já ministrados e que estão sendo realizados no momento.
Além disso, trataram também sobre o estabelecimento de futuras parcerias entre o IFNMG e a UEMG.

Em sua estrutura física o polo da UEMG conta com salas de aulas, laboratórios de informática e diversos laboratórios com equipamentos específicos para os cursos de lapidação e joalheria, incluindo um laboratório de prototipagem de jóias, com computadores de última geração e uma impressora 3D, que dá forma as jóias criadas digitalmente.
Durante o diálogo entre o diretor-geral do IFNMG-Câmpus Teófilo Otoni e o coordenador do polo da UEMG, foram percebidas demandas curriculares, que podem ser oferecidas pelo IFNMG-Câmpus Teófilo Otoni e que poderão complementar a formação dos alunos matriculados na UEMG. E, embora a instituição esteja aguardando as novas diretrizes de trabalho, neste momento de mudanças no governo estadual,as intenções de estabelecimento de parcerias foram postas por parte das duas instituições.

Bruno Dias Bento (Coordenador da UEMG)

Além da UEMG, o professor Renildo Félix e a equipe do IFNMG-Câmpus Teófilo Otoni estão elaborando uma agenda para visitar outras instituições públicas e OSCIP’s, no sentido de instituir parcerias que colaborem para a melhoria da qualidade de ensino e  possibilitem maior aproximação do Câmpus Teófilo Otoni com sociedade do Vale do Mucuri.